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PECVD设备是半导体薄膜加工的重要设备之一，设备的优良与稳定性直接决定成膜的优劣。本文以沈阳拓荆科技有限公司自主研发的SC－300单腔产品为例介绍PECVD设备基本组成结构。
浅谈单腔PECVD设备
【摘 要】
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PECVD设备是半导体薄膜加工的重要设备之一，设备的优良与稳定性直接决定成膜的优劣。本文以沈阳拓荆科技有限公司自主研发的SC－300单腔产品为例介绍PECVD设备基本组成结构。
【机 构】
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沈阳拓荆科技有限公司
【出 处】
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科技信息
【发表日期】
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2012年34期
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