动态离子束混合技术制备氧化铬薄膜的X射线光电子能谱与俄歇电子能谱研究

来源 :核技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：biluo2007

【摘要】

：

本文介绍的动态离子束混合技术制备氧化铬薄膜系在不锈钢基体上进行1keV氩离子束溅射沉积铬（同时通入一定量的O），并用100keV的氩离子束或氧离子束轰击该样品。对两种离子束轰击

【作者】

：

代海洋王治安黄宁康

【机构】

：

辐射物理和技术教育部重点实验室四川大学原子核科学技术研究所

【出处】

：

核技术

【发表日期】

：

2007年5期

【关键词】

：

氧化铬薄膜动态离子束混合技术 X射线光电子能谱俄歇电子能谱 Chromium oxide film Ion-beam assisted depositio

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本文介绍的动态离子束混合技术制备氧化铬薄膜系在不锈钢基体上进行1keV氩离子束溅射沉积铬（同时通入一定量的O），并用100keV的氩离子束或氧离子束轰击该样品。对两种离子束轰击形成的氧化铬薄膜进行了X射线光电子能谱（X-ray photoelecgon spectroscopy,XPS）和俄歇电子能谱（Augerelectron spectroscopy,AES）的分析研究。发现Ar^＋离子束制备的氧化铬薄膜主要是Cr2O3化合物，而O^＋离子束制备的氧化铬薄膜含有其它价态的铬氧化物。Ar^＋离子束制备氧

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