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间接驱动惯性约束聚变的基本前提是如何产生和控制高温黑腔辐射源，即通过高功率激光和高Z元素（Au，Pb）制作的黑腔靶相互作用，建立合适的X光辐射场：辐射温度足够高，并具有特定空间分布和时间波形，然后利用可控高温X光辐射源开展应用研究。为了防止辐射能量透过Au腔壁漏失掉，通常Au壁足够厚，神光Ⅱ装置上典型黑腔Au壁厚度约25μm，以避免烧穿并同时兼顾制靶容易。