【摘 要】
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本文通过在氧化铟锡(indium tin oxide,ITO)透明电极和锗(germanium,Ge)之间引入超薄氧化物介质层以调节其接触势垒高度,制备出低暗电流、高响应度的锗肖特基光电探测器.比较研究了采用不同种类介质Al2O3和MoO3,以及不同掺杂浓度的锗和硅衬底上外延锗材料制作的ITO/Ge肖特基二极管特性.发现2 nm厚的Al2O3插层可有效提高ITO与n-Ge和i-Ge的接触势垒高度,
【机 构】
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厦门大学物理科学与技术学院,闽南师范大学物理与信息工程学院,厦门大学电子科学与技术学院
【基金项目】
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国家自然科学基金(批准号:62074134)资助的课题.
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本文通过在氧化铟锡(indium tin oxide,ITO)透明电极和锗(germanium,Ge)之间引入超薄氧化物介质层以调节其接触势垒高度,制备出低暗电流、高响应度的锗肖特基光电探测器.比较研究了采用不同种类介质Al2O3和MoO3,以及不同掺杂浓度的锗和硅衬底上外延锗材料制作的ITO/Ge肖特基二极管特性.发现2 nm厚的Al2O3插层可有效提高ITO与n-Ge和i-Ge的接触势垒高度,
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