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期刊论文
Co/SiC复合电沉积过程
Co/SiC复合电沉积过程
来源 :无锡轻工大学学报:食品与生物技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kangta98
【摘 要】
:
研究了普通镀钴溶液中碳化硅微粒在质金属钴形成复合镀层的电沉积过程。结果表明,在小的微粒载荷量下,复合电沉积过程由微粒向阴极的传输所控制。而在大的微粒载荷量下,小电流密
【作 者】
:
刘松琴
郑秋容
【机 构】
:
无锡轻工大学化学与材料工程学院
【出 处】
:
无锡轻工大学学报:食品与生物技术
【发表日期】
:
1999年4期
【关键词】
:
复合电沉积
钴
碳化硅
镀钴
复合镀层
电沉积
composite plating codeposition amount dispersion amount
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研究了普通镀钴溶液中碳化硅微粒在质金属钴形成复合镀层的电沉积过程。结果表明,在小的微粒载荷量下,复合电沉积过程由微粒向阴极的传输所控制。而在大的微粒载荷量下,小电流密度时复合电沉积过程由微粒的强吸附所控制,大电流密度时复合电沉积过程由微粒向阴极的传输所控制。
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