【摘 要】
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用热氧化Zn3N2∶Fe薄膜成功制备了一组Fe、N共掺杂的ZnO薄膜.首先,用射频反应磁控溅射技术在石英玻璃衬底上制备Zn3N2∶Fe薄膜；然后,这些薄膜在不同温度、氧气气氛下退火2
【机 构】
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复旦大学现代物理研究所,上海200433
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用热氧化Zn3N2∶Fe薄膜成功制备了一组Fe、N共掺杂的ZnO薄膜.首先,用射频反应磁控溅射技术在石英玻璃衬底上制备Zn3N2∶Fe薄膜；然后,这些薄膜在不同温度、氧气气氛下退火2h.卢瑟福背散射(RBS)和X射线衍射(XRD)结果显示：未退火的样品为Zn3N2∶Fe薄膜；300℃氧化后,样品表层的Zn3N2∶Fe转化为ZnO∶(Fe,N),表层以下的膜层未被氧化；退火温度高于400℃时,Zn3N2∶Fe薄膜全部转化为多晶结构的ZnO∶(Fe,N)薄膜；500℃退火,薄膜开始向衬底扩散；600-700℃退火,薄膜向衬底扩散明显.在XRD灵敏度范围内,薄膜中未发现Fe团簇或与Fe相关的二次相(如Fe3O4、Fe2O3、FeO).SQUID测量显示：这些ZnO∶(Fe,N)薄膜在500℃退火条件下,室温饱和磁化强度(Ms)最大.
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