【摘 要】
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化学溶液沉积(CSD)技术在制备高温超导涂层导体方面具有易操作和低成本的优点。简述了CSD技术的基本原理以及在不同结构缓冲层制备方面的应用,并展望了涂层导体缓冲层技术的
【机 构】
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西北工业大学凝固技术国家重点实验室,西北有色金属研究院,
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化学溶液沉积(CSD)技术在制备高温超导涂层导体方面具有易操作和低成本的优点。简述了CSD技术的基本原理以及在不同结构缓冲层制备方面的应用,并展望了涂层导体缓冲层技术的发展趋势。
Chemical Solution Deposition (CSD) technology has the advantages of ease of operation and low cost in the preparation of high temperature superconducting coated conductors. The basic principle of CSD technology and its application in preparation of buffer layers with different structures are briefly described. The development trend of buffer layer technology for coated conductors is also expected.
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