IC生产工艺中真空获得设备的合理应用

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真空获得设备如何在IC生产工艺中正确合理的使用是至关重要的,作者依据 多年从事半导体设备设计和维修工作的实际经验撰写了本文。阐述了罗茨泵、油扩散泵、涡轮分子泵、钛升华泵及低温泵等系统在半导体生产工艺中合理使用的经验。 It is crucial that the vacuum access device be properly and properly used in the IC manufacturing process, and the author has written this article based on years of practical experience in the design and repair of semiconductor devices. The experience of rational use of system such as Roots pump, oil diffusion pump, turbomolecular pump, titanium sublimation pump and cryogenic pump in semiconductor manufacturing process is expounded.
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