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期刊论文
紫铜化学抛光工艺的研究
紫铜化学抛光工艺的研究
来源 :电镀与涂饰 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wwwzhaozhiqiang
【摘 要】
:
研究了紫铜HNO3-H2O2微酸性化学抛光工艺。在抛光溶液中添加亮剂,缓蚀剂和抑雾剂,改进了工艺成份。并通过正交试验获得了最佳工艺条件。该改进后的工艺可使紫铜表面达到机械镜面抛光的光
【作 者】
:
薛永强
姚素玲
【机 构】
:
山西矿业学院,030024
【出 处】
:
电镀与涂饰
【发表日期】
:
1997年2期
【关键词】
:
铜
化学抛光
工艺
copper
chemcal polishing
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研究了紫铜HNO3-H2O2微酸性化学抛光工艺。在抛光溶液中添加亮剂,缓蚀剂和抑雾剂,改进了工艺成份。并通过正交试验获得了最佳工艺条件。该改进后的工艺可使紫铜表面达到机械镜面抛光的光亮度,同时大大地改善了操作环境。
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