用0.8μm工艺技术设计的65—kb BiCMOS SRAM

来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ztcld2003
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设计了一种65-kb BiCMOS静态随机存取存储器(SRAM)的存储单元及其外围电路,提出了采用先进的0.8μm BiCMOS工艺,制作所设计SRAM的一些技术要点。实验结果表明,所设计的BiCMOS SRAM,其电源电压可低于3V,它既保留了CMOS SRAM低功耗、高集成密度的长处,又获得了双极型(Bipo1ar)电路快速、大电流驱动能力的优点,因此,特别适用于高速缓冲静态存储系统和便携式数字电子设备中。
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