【摘 要】
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据《Semiconductor FPD World》2008年第8期报道,日本富士通研究所和富士通微电子联合开发了用于32nm逻辑LSI的低功耗CMOS技术。为此,分别开发了NMOS和PMOS新技术。尽管采用
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据《Semiconductor FPD World》2008年第8期报道,日本富士通研究所和富士通微电子联合开发了用于32nm逻辑LSI的低功耗CMOS技术。为此,分别开发了NMOS和PMOS新技术。尽管采用了新材料、增加了制造工序,但有效地控制了成本的增加。与45nm逻辑LSI相比,在保持原有工作速度的前提下,
According to “Semiconductor FPD World” 2008 the 8th report, Japan’s Fujitsu Institute and Fujitsu Microelectronics jointly developed for low-power CMOS technology for 32nm logic LSI. To this end, respectively, developed a new NMOS and PMOS technology. Despite the introduction of new materials, increased manufacturing processes, but effectively control the cost increase. Compared with 45nm logic LSI, while maintaining the original working speed of the premise,
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