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与常规镀膜技术相比，磁过滤真空离子镀技术具有无污染、色泽均匀、致密度高、耐蚀、耐磨等特点，其在装饰加工领域的应用日益丰富。本文研究了气体分压与基体负偏压对TiN膜层的影响。通过对膜基结合强度、硬度、耐磨性、耐蚀性等性能指标的综合考量，得出弧电流65A，N2压强0．4Pa，基体负偏压-200V为最优的生产工艺。