论文部分内容阅读
用电化学方法制备不同孔隙率的多孔硅，然后用脉冲激光沉积的方法，以多孔硅为衬底生长氧化锌（ZnO）薄膜，研究多孔硅的孔隙率对ZnO薄膜的质量和光致发光谱的影响，用x射线衍射仪和扫描电子显微镜表征ZnO薄膜的结构性质．结果表明，当多孔硅的孔隙率较大时，沉积的ZnO薄膜为非晶结构．沉积上ZnO薄膜之后，多孔硅的发光谱蓝移．由于ZnO）薄膜缺陷较多，其深能级发光较强．ZnO的深能级发光与多孔硅的橙红光相叠加，得到了可见光区宽的光致发光带，呈现自光发射．