【摘 要】
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介绍了利用微弧氧化技术制备TiO2光催化薄膜的工艺过程、形成机理、影响因素,以及膜层结构与性能之间的关系等。提出在微弧氧化工艺制备TiO2光催化薄膜的过程中,通过复合半导
【机 构】
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武汉大学物理科学与技术学院和电子显微镜中心,教育部纳米矿物材料及应用工程研究中心(中国地质大学),武汉大学教育部声光材料与器件重点实验室,
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介绍了利用微弧氧化技术制备TiO2光催化薄膜的工艺过程、形成机理、影响因素,以及膜层结构与性能之间的关系等。提出在微弧氧化工艺制备TiO2光催化薄膜的过程中,通过复合半导体、金属掺杂和非金属掺杂,可以有效地提高其光催化性能。
The process, formation mechanism, influencing factors and the relationship between the structure and properties of TiO2 photocatalytic film prepared by microarc oxidation are introduced. It is proposed that the photocatalytic performance of TiO2 photocatalytic thin film can be effectively enhanced by compound semiconductor, metal doping and non-metal doping in the process of preparing TiO2 photocatalytic film by micro-arc oxidation process.
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