微通道板测试用铯离子源离化效率研究

来源 :光子学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sm2998
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为研究铯离子作为入射源轰击微通道板性能测试技术,采用铯离子束产生器作为实验装置,分析整个铯离子束产生过程,进而研究铯原子轰击离化丝(钽,脱出功为4.12 eV)而产生的铯等离子体的离化效率的影响因素.从物理过程分析出离化效率受离化环境温度、离化丝功率、聚焦电压等因素的影响,结合沙哈-朗缪尔(Saha-Langmuir)方程,分析出出射离子电流可作为离化效率的实际表征量.实验通过改变离化环境温度、离化丝功率等因素,采用运放反馈电流法测量离子电流的大小.实验结果表明通过控制离化环境温度可维持输入铯原子数的稳定
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