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利用射频磁控溅射法制备了不同衬底温度的氧化锌(ZnO)薄膜。研究了其场发射特性,分析了场发射特性和衬底温度的变化关系。实验结果表明,开启电场随着衬底温度的增加呈先增大后减小的趋势,场发射特性的变化是由于衬底温度的改变引起表面形貌的变化所致。衬底温度为300℃时沉积的ZnO薄膜样品粗糙度最小,场发射性能最差,其开启场强为1.7V/μm,场强为3.8V/μm时电流密度仅为0.00197A/cm^2;衬底温度为400℃时沉积的ZnO薄膜样品表面粗糙度最大,场发射特性也优于其他薄膜;开启场强为0.82V/μm,场