【摘 要】
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研究在柠檬酸钾和草酸铵镀液体系中镀钯工艺。结果表明，采用本实验室研制的添加剂XP－4和XP－7以及PPS和FF，则可在电流密度0.5～3.5A／dm2、温度40～60℃的宽范围内获得全光亮的钯电沉积
【机 构】
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厦门大学化学系物理化学研究所!361005;
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研究在柠檬酸钾和草酸铵镀液体系中镀钯工艺。结果表明，采用本实验室研制的添加剂XP－4和XP－7以及PPS和FF，则可在电流密度0.5～3.5A／dm2、温度40～60℃的宽范围内获得全光亮的钯电沉积层。钯沉积的电流效率和沉积速度在镀液中钯含量为10g／L、1．0A／dm2的条件下分别可达到92.0％和0.25μm／min，并随电流密度和镀液中钯含量的变化而改变。XP－4和XP－7均阻化钯的电沉积，提高钯电沉积的过电位。它们共存时可使把电沉积的电位负移达240mV。
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