【摘 要】
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通过传统熔融淬冷技术制备Ge28Sb12Se60硫系玻璃,并由热蒸发技术制备出Ge28Sb12Se60非晶态薄膜,利用电感耦合等离子体（ICP）刻蚀机在不同刻蚀气体氛围下制备出Ge-Sb-Se硫系光波
【机 构】
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宁波大学红外材料及器件实验室,浙江省光电探测材料及器件重点实验室
【基金项目】
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宁波市自然科学基金（2015A610122）,宁波大学微纳电子信息系统市重点学科基金（XKl15D226）
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通过传统熔融淬冷技术制备Ge28Sb12Se60硫系玻璃,并由热蒸发技术制备出Ge28Sb12Se60非晶态薄膜,利用电感耦合等离子体（ICP）刻蚀机在不同刻蚀气体氛围下制备出Ge-Sb-Se硫系光波导.研究了不同刻蚀功率和不同刻蚀气体流量比等条件参数对制备所得Ge-Sb-Se波导表面形貌的影响,利用台阶仪测量其刻蚀速率,扫描电子显微镜（SEM）和扫描探针显微镜（SPM）测量波导形貌以及表面粗糙度.结果显示,对于相同组分材料的Ge-Sb-Se硫系薄膜,相比于CF4/O2刻蚀气体,CF4/CHF3混合刻蚀气
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