【摘 要】
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采用磁控溅射法在硅基材上制备了Al-Cu-Fe薄膜，采用原子力显微镜（AFM）和X射线衍射仪（xRD）研究了不同溅射时间下Al-Cu-Fe薄膜的生长行为。结果表明，随着溅射时间的延长，Al-Cu-Fe薄膜
【机 构】
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上海工程技术大学材料工程学院,上海工程技术大学基础教学学院
【基金项目】
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上海市科技发展基金(07ZZ159);上海市重点学科建设项目(J51402);上海工程技术大学创新基金项目(A0500E76308)
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采用磁控溅射法在硅基材上制备了Al-Cu-Fe薄膜，采用原子力显微镜（AFM）和X射线衍射仪（xRD）研究了不同溅射时间下Al-Cu-Fe薄膜的生长行为。结果表明，随着溅射时间的延长，Al-Cu-Fe薄膜的8晶相的衍射峰半峰宽逐渐减小，而入晶相的衍射峰半峰宽则逐渐增大。Al-Cu-Fe薄膜的生长依次经历了小岛形核阶段、小岛结合阶段、连续薄膜阶段、晶粒长大阶段等4个阶段。另外，随着溅射时间的延长，Al-Cu-Fe薄膜的粗糙度呈现出先增大后减小的趋势。
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