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期刊论文
粉体纯化装置及工艺研究
粉体纯化装置及工艺研究
来源 :稀有金属材料与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:magicwen_STWH
【摘 要】
:
根据硅粉纯化的要求,提供了一种长落程和高反应速率的冷等离体反应器.工艺参数的选择着重于增大鞘层厚度、提高反应粒子浓度和控制抽气速率,因此,能有效的提高纯化反应的速率
【作 者】
:
王敬义
尹盛
陶甫廷
吴京波
冯信华
苏睿
许淑
【机 构】
:
华中科技大学,广西工学院,湖南长沙万全科技开发有限公司
【出 处】
:
稀有金属材料与工程
【发表日期】
:
2005年10期
【关键词】
:
等离子体纯化
纯化反应
表面刻蚀
plasma purification
purity reaction
surface etching
【基金项目】
:
国家自然科学基金
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根据硅粉纯化的要求,提供了一种长落程和高反应速率的冷等离体反应器.工艺参数的选择着重于增大鞘层厚度、提高反应粒子浓度和控制抽气速率,因此,能有效的提高纯化反应的速率、粉料的回收率和粉粒一次沉降的时间.实验结果表明:该设备能将纯度为99%的工业硅纯化为约99.99%的太阳级硅.
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