SnO_2薄膜(掺Sb_2O_5)的金属有机化合物气相沉积及其光电特性

来源 :人工晶体 | 被引量 : 0次 | 上传用户：raggae

【摘要】

：

本文采用金属有机化合物气相沉积(MOCVD)方法生长了掺Sb_2O_5的SnO_2薄膜(1000～2000A)测定了薄膜的结构及其光电化学特性。 In this paper, the structure and the photoelec

【作者】

：

罗文秀淳于宝珠夏德迎穆劲冯绪胜谭忠恪

【机构】

：

山东大学化学系,山东大学化学系,山东大学化学系,山东大学化学系,山东大学化学系,山东大学晶体材料研究所

【出处】

：

人工晶体

【发表日期】

：

1987年04期

【关键词】

：

金属有机化合物薄膜 Sb_2O_5 SnO_2 MOCVD 光电特性制膜技术电子束蒸发电化学特性多晶膜

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本文采用金属有机化合物气相沉积(MOCVD)方法生长了掺Sb_2O_5的SnO_2薄膜(1000～2000A)测定了薄膜的结构及其光电化学特性。 In this paper, the structure and the photoelectrochemical properties of the thin films have been measured by the growth of Sb 2 O 5 doped SnO 2 films (1000 ~ 2000 A) by the metal organic compound vapor deposition (MOCVD) method.

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