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为解决成像器件管体熔铟层产生流散不均匀、熔层断裂、体内气泡造成的光电阴极与管体封接漏气问题,深入分析了产生根源,研究了一种管体注铟技术,使管体注铟合格率达到了100%,光电阴极与管体封接气密性成品率达到了98%。
近贴聚焦成像器件管体熔铟层气孔产生的因素分析
【摘 要】
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为解决成像器件管体熔铟层产生流散不均匀、熔层断裂、体内气泡造成的光电阴极与管体封接漏气问题,深入分析了产生根源,研究了一种管体注铟技术,使管体注铟合格率达到了100%,
【机 构】
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北方夜视科技集团股份有限公司西安分公司,
【出 处】
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真空电子技术
【发表日期】
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2011年05期
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