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采用HFCVD制备金刚石薄膜的方法，以乙醇为碳源，氢气为载气，在适当的衬底温度下，合成出具有(100)晶面取向均匀生长的金刚石薄膜．SEM，XRD和Raman分析表明，所合成的金刚石薄膜是高质量的多晶(100)取向膜，厚度均匀、化学性能稳定，结构和性能与天然金刚石相接近．研究了室温下(100)取向金刚石薄膜的暗电流-电压特性、稳态^55Fe 5．9keV X射线辐照下的响应和电容-频率特性．结果表明，退火后(100)取向多晶金刚石薄膜具有较低的暗电流和较高的x射线响应；高频下，电容和介电损耗都很小且趋于稳