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利用弛豫谱技术对界面陷阱密度和其能量分布的研究

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：w_wallace

【摘 要】

：

基于界面陷阱的定义,通过分别对亚阈值摆幅漂移和亚阈区栅电压漂移采用弛豫谱技术有效地提取了1.9nm MOS结构中的界面陷阱密度和它的能量分布.发现这两种方法提取的界面陷阱

【作 者】

：

霍宗亮 毛凌锋 谭长华 许铭真 

【机 构】

：

北京大学微电子学研究所

【出 处】

：

半导体学报

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

弛豫谱技术 界面陷阱 MOS结构 relaxation spectral technique interface trap MOS structure 

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基于界面陷阱的定义,通过分别对亚阈值摆幅漂移和亚阈区栅电压漂移采用弛豫谱技术有效地提取了1.9nm MOS结构中的界面陷阱密度和它的能量分布.发现这两种方法提取的界面陷阱密度的能量分布是自洽的,同时也与文献报道的DCIV等方法的结果是一致的.与其它的提取方法相比,采用弛豫谱技术的这两种方法更加简单和方便.

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