HfO2高激光损伤阈值薄膜的制备及特性研究

来源 :武汉理工大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：viviane_px349

【摘要】

：

采用水热合成技术，制备了HfO2胶体，用旋涂法镀制了单层HfO2介质膜。采用XRD，椭偏仪，红外光谱（FTIR）等方法对薄膜进行了测试和表征，用输出波长为1064nm，脉宽为10ns的电光调Q激光系统产

【作者】

：

沈军罗爱云王生钊欧阳玲谢志勇朱玉梅

【机构】

：

同济大学波耳固体物理研究所

【出处】

：

武汉理工大学学报

【发表日期】

：

2007年E01期

【关键词】

：

HFO2薄膜旋涂工艺热处理高折射率激光损伤阈值 HfO2 thin films spin-coating technology heating tr

【基金项目】

：

国家自然科学基金重点资助项目（21033040）,国家高技术863计划（2002AA84052）,上海科委纳米专项（0552nm08）,教育部跨世纪优秀人才计划资助项目,上海市重点学科建设资助项目（02SL001）和上海市科技攻关计划（055211010）.

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采用水热合成技术，制备了HfO2胶体，用旋涂法镀制了单层HfO2介质膜。采用XRD，椭偏仪，红外光谱（FTIR）等方法对薄膜进行了测试和表征，用输出波长为1064nm，脉宽为10ns的电光调Q激光系统产生的强激光测试其激光损伤阈值。研究了热处理温度对薄膜厚度、折射率、红外光谱、晶态以及激光损伤阈值的影响，并对薄膜的激光损伤形貌进行了分析。研究结果表明：HfO2薄膜的折射率可达到1．655；采用150℃左右的温度对薄膜进行热处理可以提高薄膜的激光损伤闽值，此时薄膜的激光损伤阈值高达42．32J／cm^2（1

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