【摘 要】
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利用直流磁控溅射法在金钢石颗粒表面沉积了厚度为１５０ｎｍ的金属Ｃｒ薄膜。ＳＥＭ研究表明在金刚石表面形成的Ｃｒ膜基本均匀，但有小的金属聚集体存在。俄歇深度剖析研究发现，在镀膜过程中Ｃｒ膜和金刚石
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利用直流磁控溅射法在金钢石颗粒表面沉积了厚度为１５０ｎｍ的金属Ｃｒ薄膜。ＳＥＭ研究表明在金刚石表面形成的Ｃｒ膜基本均匀，但有小的金属聚集体存在。俄歇深度剖析研究发现，在镀膜过程中Ｃｒ膜和金刚石基底间发生了显著的界面扩工用作用。相应的俄歇线形分析表明，沉积过程中在界面上发生化学反应形成了部分Ｃｒ２Ｃ３物种。溅射沉积功率对金刚石颗粒与金属Ｃｒ膜的界面反应有较大的影响，提高溅射功率可大大促进Ｃｒ元素的扩
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