【摘 要】
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最近 ,ＡＳＭＬ公司推出了其最新开发的ＰＡＳ 5 5 0 0 / 80 0型远紫外步进扫描系统 ,该机具有0 1 2 μｍ分辨能力 ,其数值孔径达 0 80 ,是至今世界上最大数值孔径的远紫外步进扫描光刻设备
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最近 ,ＡＳＭＬ公司推出了其最新开发的ＰＡＳ 5 5 0 0 / 80 0型远紫外步进扫描系统 ,该机具有0 1 2 μｍ分辨能力 ,其数值孔径达 0 80 ,是至今世界上最大数值孔径的远紫外步进扫描光刻设备 ,可生产2 0 0ｍｍ圆片 1 1 5片 /ｈ。新设备采用了瑞士ＣａｒｌＺｅｉｓｓ公司提供
Recently, ASML introduced its newly developed PAS 5500/80 0 deep UV stepper scanning system with resolution of 0 1 2 μm and a numerical aperture of 0 80, making it the world’s largest numerical aperture Of the far UV scanning scanning lithography equipment, can produce 2 0 0mm wafer 115 1 / h. New equipment used by the Swiss company CarlZeiss
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