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[会议论文] 作者：于丽娟;邓宁;李俊峰;朱长纯;,
来源：第七届中国真空微电子学与场致发射学术年会 年份：1999
本文用B＜，2＞H＜，6＞（硼烷）、和SiH＜，4＞（硅烷）作反应气，通过射频等离子体增强化学气相淀积（RF-PECVD）的方法，在（100）Si上沉积生长氮化硼（BN）薄膜，用HITCHI S—520扫描电子显微镜对所得薄膜进行观测，并用......
[期刊论文] 作者：于丽娟,邓宁,李俊峰,朱长纯,
来源：真空科学与技术 年份：1999
用 Ｂ２Ｈ６和 ＳｉＨ４作反应气体，通过射频等离子体增强化学气相淀积（ＲＦ－ＰＥＣＶＤ）方法，在 Ｓｉ（１００）面上沉积生长ＢＮ薄膜，用Ｓ－５２０扫描电子显微镜对所得薄膜进行观测，并用红外透射光谱测试分析了膜的成分。在室温、压力为 ８ ×......
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