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[期刊论文] 作者：伊野洋一,吴关寿,
来源：微细加工技术 年份：1985
半导体制造工艺中的薄膜生长,迄今广泛应用的是热CVD法(Chemical VaporDeposition)和等离子CVD法,而这些方法是在高温状态下进行的,因此,对那些衬底耐热性较差或者经高温处...
[期刊论文] 作者：相泽朋之,平良哲二,伊野洋一,铁执玲,
来源：真空 年份：1987
1.前言 由于真空材料和真空技术的进步,已经能够比较容易地实现高真空和超高真空,但是伴随着高真空和超高真空的发展,以电离真空计为代表的所谓全压强计的指示值,因残余气体...
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