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[期刊论文] 作者：吴子景,,
来源：时代金融 年份：2011
随着中国经济和企业的快速发展,会计行业的就业前景呈现金字塔状,高端人才极度缺乏,而高级会计人才培养是我国人才强国战略的重要组成部分。本文通过对高级会计人才应具备的...
[期刊论文] 作者：吴子景,
来源：浙江财税与会计 年份：1997
会计的审核工作内容很多,对原始凭证的审核是其中重要而又特殊的一项。这项工作矛盾很多,往往与领导、业务人员发生冲突。如何发挥会计审核的作用呢?我认为应从以下几个...
[期刊论文] 作者：吴子景,
来源：浙江医学教育 年份：2005
高校内部控制制度是高校内部各种形式管理控制制度的总称。本文就高校建立内部控制制度的目的,建立内部控制制度的原则,内部控制制度应包含的基本内容及保证内部控制制度实施...
[期刊论文] 作者：吴子景,,
来源：事业财会 年份：1997
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[期刊论文] 作者：吴子景,
来源：事业财会 年份：2001
会计电算化是现代会计理论与现代科学技术,尤其是计算机技术相结合的产物.它改变了财务会计信息的处理和存储方式,对会计理论和实务产生了重大影响.但是,将计算机用于会计工...
[期刊论文] 作者：吴子景,
来源：事业财会 年份：1998
当前，各类学校的经费紧张现象较为普遍，而各校为了教育事业的稳步发展，在硬件建设上，采用了灵活多样的方式，有现购的，有无偿调入的，有接受捐赠的，有融资租入的，有自筹资金自行建造的。......
[期刊论文] 作者：吴子景,
来源：财务与金融 年份：1995
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[期刊论文] 作者：吴子景,
来源：管理学家 年份：2012
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[学位论文] 作者：吴子景,
来源：复旦大学 年份：2008
随着集成电路器件特征尺寸的不断减小,微纳电子材料的力学性能越来越显著地对器件乃至整个电路的可靠性产生重要影响。因此需要一种行之有效的评价方法来表征这些材料在纳米...
[期刊论文] 作者：吴子景,段潇毅,,
来源：卫生经济研究 年份：2002
单位内部会计监督制度的本质是内部控制制度.按照的解释,内部控制是管理当局为了确保以有序和有效方式来实现管理目标而制定的管理政策和控制程序....
[期刊论文] 作者：朱伟,吴子景,王灵,,
来源：企业家天地下半月刊(理论版) 年份：2007
据统计资料表明,我国在经济连续快速增长后面临通货膨胀的压力。本文介绍了通货膨胀的含义及由来,分析了通货膨胀对经济和企业的影响,指出了我国企业在通货膨胀的条件下,面对...
[期刊论文] 作者：吴晓京, 吴子景, 蒋宾,,
来源：复旦学报(自然科学版) 年份：2008
纳米材料由于其本身特殊的尺度,呈现出与体材料完全不同的力学、摩擦学性质.纳米压痕试验作为一种在纳米尺度进行力学、摩擦学性质表征的有效手段,已经被成功地运用于单层/多...
[期刊论文] 作者：吴子景,朱伟,王雪峰,,
来源：企业家天地下半月刊(理论版) 年份：2007
财务分析是高职院校财务管理的重要组成部分,建立和完善科学的财务分析体系,客观反映高职院校财务状况,是高职院校管理和发展的客观要求。随着知识经济的到来和高职院校投资...
[期刊论文] 作者：吴子景,吴晓京,蒋宾,,
来源：西安交通大学学报 年份：2008
利用等离子体增强化学气相淀积工艺在p型单晶硅(111)衬底上制备了厚度为70、150、450nm的SiO2薄膜和100、1702、20 nm的Si3N4薄膜,并使用纳米压入仪对薄膜进行了纳米力学测试...
[期刊论文] 作者：吴子景,吴晓京,SHEN Wei-dian,蒋宾,
来源：西安交通大学学报 年份：2008
利用等离子体增强化学气相淀积工艺在P型单晶硅（111）衬底上制备了厚度为70、150、450nm的SiO2薄膜和100、170、220nm的Si3N4薄膜，并使用纳米压入仪对薄膜进行了纳米力学测试与分...
[期刊论文] 作者：李慧,卢茜,吴子景,吴晓京,,
来源：半导体技术 年份：2008
采用无酸水热法，制备了多孔硅材料。使用扫描电子显微镜、原子力显微镜等手段观察了样品表面形貌，比较了在不同氧化铋刻蚀剂量下得到的多孔硅结构，发现随着刻蚀剂浓度的增加，平均......
[期刊论文] 作者：吴子景,吴晓京,卢茜,蒋宾,,
来源：半导体技术 年份：2008
采用磁控溅射技术在热氧化单晶硅衬底上先后淀积了厚度分别为50 nm的Ta膜和400 nm的Cu膜。使用纳米压入仪在样品表面进行压入测试,在薄膜表面制造出残留压痕。使用扫描电镜(S...
[期刊论文] 作者：吴子景,吴晓京,SHEN Weidian,蒋宾,JIANG,
来源：西安交通大学学报 年份：2004
利用等离子体增强化学气相淀积工艺在p型单晶硅(111)衬底上制备了厚度为70、150、450nm的SiO2薄膜和100、170、220 nm的Si3N4薄膜,并使用纳米压入仪对薄膜进行了纳米力学测试...
[期刊论文] 作者：吴子景,吴晓京,卢茜,Shen Weidian,蒋宾,
来源：半导体技术 年份：2008
采用磁控溅射技术在热氧化单晶硅衬底上先后淀积了厚度分别为50nm的Ta膜和400nm的cu膜。使用纳米压入仪在样品表面进行压入测试，在薄膜表面制造出残留压痕。使用扫描电镜（SEM）、......
[期刊论文] 作者：卢茜,吴子景,吴晓京,Weidian Shen,蒋宾,,
来源：电子显微学报 年份：2008
Cu/Ta/SiO2/Si多层膜结构是目前集成电路制造工艺中的常见结构,其硬度与弹性模量通过纳米压入技术测得。为了表征纳米压痕下的形变微观区域,采用聚焦离子束加工出压痕截面,同...
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