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[学位论文] 作者：巩春志,,
来源：哈尔滨工业大学 年份：2008
为了提高管筒状零部件的性能和使用寿命,人们常采用表面改性技术。离子注入做为一种有效的表面改性手段一直受到人们的重视,但对于细管筒内表面的处理均匀性无能为力。本文以...
[学位论文] 作者：巩春志,
来源：哈尔滨工业大学 年份：2004
脉冲偏压电源在等离子体表面改性处理技术应用中起到很重要的作用.该文研制了两种模式的高频脉冲偏压复合电源:单向脉冲偏压复合电源和正负脉冲偏压复合电源.利用IGBT开关电...
[期刊论文] 作者：巩春志,
来源：大观周刊 年份：2020
基于以上考虑决定就城市管理的历史渊源、现状以及智慧城市的具体建设问题与各位同僚进行研究和探讨...
[期刊论文] 作者：巩春志,
来源：现代交际 年份：2021
以研究构建新型城乡关系中存在的问题及寻找解决主要矛盾的突破点为目标,通过社会学视角对城乡关系的结构性问题展开分析,研究新时代城市与农村的社会关系,对新型城乡关系问...
[会议论文] 作者：田修波,巩春志,
来源：2014年广东省真空学会学术年会 年份：2014
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[期刊论文] 作者：魏松,田修波,巩春志,,
来源：真空 年份：2013
可调脉冲电源MPP(modulated pulsed power)磁控溅射技术是一种新型的高功率磁控溅射技术。基于STC12C5A60S2单片机为控制单元研制了MPP电源。电源可以输出多种脉冲波形,能够...
[期刊论文] 作者：许建平,巩春志,田修波,,
来源：焊接 年份：2012
空心阴极真空弧方法能够在低气压条件下形成电弧放电，作为一种真空焊接或太空焊接的工艺方法已经引起了国内外的研究。文中综述了空心阴极真空弧焊技术的研究进展，从真空弧的热......
[期刊论文] 作者：李一,巩春志,田修波,,
来源：机械工程师 年份：2009
基于可编程序控制器（PLC）研制了微弧氧化电源智能控制系统，系统人机通讯良好，不仅实现了电压、电流以及过程控制，更重要的是利用PLC内部和外接电路协调作用实现了PLC的脉冲宽度和......
[期刊论文] 作者：许建平,巩春志,田修波,,
来源：真空科学与技术学报 年份：2013
利用射频空心阴极作为放电结构,测试了放电结构在低气压下的发射光谱,并计算了电子温度,分析了不同放电条件对光谱强度及电子温度的影响.研究发现,随着气体流量的增加,氩原子...
[期刊论文] 作者：杨波,田修波,巩春志,,
来源：真空科学与技术学报 年份：2014
针对铝合金无法直接烙铁钎焊的问题,本文提出了一种表面改性焊接的新方法:采用离子注入与磁控溅射相结合的技术在2024铝合金表面制备Cu膜,并实现了铝合金的低温钎焊。实验中...
[会议论文] 作者：田修波,巩春志,张新宇,
来源：第十二届海峡两岸薄膜科学与技术研讨会 年份：2016
电源是镀膜质量提高的关键控制因素之一，通过改变放电模式提高沉积速率是可行的，提出一种新型高离化率、高沉积速率磁控溅射技术，沉积速率最大提高为35倍，离化率提高约3倍，薄膜更......
[期刊论文] 作者：孔维星,巩春志,田修波,
来源：真空与低温 年份：2019
形核是HFCVD金刚石薄膜沉积的重要阶段,对金刚石薄膜质量至关重要。为实现金刚石薄膜在微细硬质合金刀具表面的高质量形核,选取了形核过程中的几个核心参数:热丝功率(Pf)、碳...
[期刊论文] 作者：巩春志,田修波,杨士勤,,
来源：微细加工技术 年份：2008
介绍了一种新的等离子体离子注入在不锈钢表面改性上的应用。将高压脉冲和射频脉冲直接耦合到工件上，不需外部等离子体源，利用工件自身加射频产生等离子体，随后施加高压对不锈钢......
[期刊论文] 作者：蔡明哲,张春雨,巩春志,田修波,,
来源：真空科学与技术学报 年份：2014
直流等离子体离子注入是一种新的离子注入手段。本文基于particle-in-cell模型使用MATLAB软件对长轴零件直流等离子体离子注入进行数值仿真研究,主要考察工件到等离子体边界...
[会议论文] 作者：田修波,巩春志,张新宇,王雪松,
来源：中国真空学会2016学术年会 年份：2016
高功率磁控溅射技术具有膜层致密、膜基结合力好以及薄膜均匀等优点,已经得到国际镀膜大公司(如Balzers,cemecon 等)以及学术界的广泛重视,但是其较低的沉积速率成为制约其发展的重要因素.这是因为高功率脉冲磁控溅射利用了高压(0.5～2.0kV)、大电流(100-1000A)脉......
[会议论文] 作者：张春雨,巩春志,石经纬,田修波,
来源：第十一届国际真空冶金与表面工程学术会议、2013年真空工程学术会议暨2013年真空咨询学术会议 年份：2013
本文自行研制了可输出方波和阶梯波的脉冲高压等离子体离子注入电源。采用全固态的Marx发生器作为高压主电路，通过独立控制每个放电IGBT的开通和关断，实现方波和阶梯波的脉冲高压输出，有效的解决了传统真空电子管模式高压电源体积大，成本高，不可精确调节等问题。同时......
[期刊论文] 作者：吴厚朴, 田钦文, 田修波, 巩春志,,
来源：真空 年份：2004
独立设计研制了新型两段式双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射电源,本电源具备3种工作模式:(1)传统高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)放电模式,(2)双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射(BP-HiPI...
[会议论文] 作者：田修波, 吴忠振, 巩春志, 杨士勤,,
来源： 年份：2009
高脉冲功率磁控溅射(HPPMS)技术是最近发展起来的一种新型磁控溅射技术。由于在高功率脉冲期间,溅射粒子离化率很高,有时可达70-80%,因此HPPMS模式制备的膜层致密、性能...
[期刊论文] 作者：李春伟,田修波,巩春志,许建平,,
来源：表面技术 年份：2016
目的 以V靶为例,研究高功率脉冲磁控溅射（HIPIMS）放电时不同工作气压下靶脉冲电流及等离子体发射光谱的表现形式和演变规律,为HIPIMS技术的进一步广泛应用提供理论依据。方法...
[期刊论文] 作者：李春伟,田修波,巩春志,许建平,
来源：表面技术 年份：2016
目的 研究不同靶基距对高功率脉冲磁控溅射（HIPIMS）在凹槽表面制备钒膜微观结构和膜厚均匀性的影响,实现凹槽表面高膜层致密性和均匀性的钒膜制备。方法 采用HIPIMS方法制备钒...
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