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[会议论文] 作者：庄子寿[1]张陆满[2],
来源：2010中国(北京)洁净技术论坛暨2010中国苏州洁净室与相关受控环境技术论坛 年份：2010
当半导体制程进展到纳米技术以后;气悬分子污染(AMC)对制程和良率的危害程度已经取代气悬微粒污染问题，成为当今纳米科技研发和制造洁净室环境的主要难题。为了解决AMC问题;本...
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