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[期刊论文] 作者：张荟星,
来源：材料导报 年份：2001
本课题组从1988年以来,一直承担国家“863”新材料领域下达的以研制Mevva离子源为主的金属离子注入材料表面改性的任务。12年来已成功地研制了Mevva Ⅰ型、Ⅱ型ⅡA型、...
[会议论文] 作者：张荟星,李强,
来源：2001全国荷电粒子源粒子束学术会议 年份：2001
本文介绍了阴极真空弧放电技术的应用及磁放滤等离子体沉积和注入装置以及它的应用....
[期刊论文] 作者：王广甫,张荟星,
来源：核技术 年份：2004
研究了阴极弧等离子体沉积中第二阳极现象改善弧放电稳定性的作用.结果表明:由于弧放电规模增大,等离子体电阻降低,第二阳极现象的存在可大幅度提高造成阴极弧放电不稳定的聚...
[期刊论文] 作者：王广甫,张荟星,
来源：北京师范大学学报(自然科学版) 年份：2000
在９０°磁过滤管道和阴极之间加一３０￣６０Ｖ的正偏压可使磁过滤管道直屋阴极弧放电第二阳极的作用，在此情况下对了聚焦磁场对ＭＥＶＶＡ源阳极－阴极以及磁过滤管道－阴极２个回路弧放电和电磁过滤管道......
[期刊论文] 作者：王广甫,张荟星,
来源：原子能科学技术 年份：2001
在90°磁过滤管道和MEVVA源阴极之间加30～60V的正偏压可使磁过滤管道起到阴极弧放电第二阳极的作用.在此情况下,就磁过滤管道磁场对MEVVA源阳极-阴极和磁过滤管道-阴极两...
[期刊论文] 作者：王广甫, 张荟星,,
来源：核技术 年份：2001
利用一台磁过滤真空弧沉积装置,初步研究了磁过滤管道对系统弧放电的影响.实验证明,磁过滤管道在阴极真空弧沉积中不仅起到消除大颗粒的作用,还作为阴极真空弧放电的第二阳极...
[期刊论文] 作者：张孝吉,张荟星,
来源：原子核物理评论 年份：1997
为发展金属离子束材料表面改性技术的工业应用，北师大低能核物理所研制成阴极真空弧离子源和离子注入装置，简要介绍该设备的结构、原理和性能。...
[期刊论文] 作者：王广甫,张荟星,
来源：真空科学与技术 年份：2003
提出了模拟磁过滤阴极真空弧放电等离子体沉积装置阴极弧放电过程的等效电路,并用此电路定性研究了各参数对弧放电的影响,结果同实验符合的很好....
[期刊论文] 作者：王广甫,张荟星,
来源：真空科学与技术 年份：2003
介绍了阴极真空弧沉积中,弧源在阴极接地和阳极接地两种不同工作状态下的工作特性.发现阳极接地时,因沉积靶室入口法兰的第二阳极作用,聚焦磁场对弧源放电稳定性的影响不如阴...
[期刊论文] 作者：王广甫,张荟星,
来源：北京师范大学学报：自然科学版 年份：1997
介绍了采用９０°螺旋管的过滤真空弧等离子体沉成膜系统，对磁过滤管道的传输特性进行了实验研究，实验观察到，弧源聚焦磁场和过滤管道正偏压越高，过滤管道的传输效率越高，但聚焦磁......
[期刊论文] 作者：王广甫,张荟星,
来源：北京师范大学学报：自然科学版 年份：2001
在90°磁过滤管道和MEVVA源阴极之间加一30～60V的正偏压，可使磁过滤管道起到阴极弧放电第二阳极的作用.在此情况下对磁过滤管道磁场对MEVVA源阳极-阴极以及磁过滤管道-阴极...
[期刊论文] 作者：王广甫,张荟星,
来源：北京师范大学学报(自然科学版) 年份：2004
采用质子激发的X射线能谱分析(PIXE)方法对磁过滤阴极真空弧沉积(FVAPD)装置在Al板上合成Ti膜相对厚度进行了测量,给出了沉积靶室中不同位置大面积合成薄膜的均匀性.通过同背...
[期刊论文] 作者：张孝吉,张荟星,
来源：北京师范大学学报：自然科学版 年份：1991
为满足离子注入材料改性研究和实际应用的需要。研制了一个金属蒸汽真空弧(简称MEVVA)离子源.这是一新型离子源种,它利用阴极和阳极间的真空弧放电原理由阴极表面直接产生高...
[期刊论文] 作者：朱祥正,张荟星,
来源：微细加工技术 年份：1990
我们研制了一种金属蒸气真空孤(MEVVA)离子源。这是一种新型的强流金属离子源,特别适用于离子注入材料表面改性中。测量了该源的引出束流密度分布,并估算了束散角和发射度。...
[期刊论文] 作者：张涛,张荟星,等,
来源：微细加工技术 年份：1996
离子注入技术已被应用于气敏材料的开发研究，这是离子注入技术的一个较新的应用领域，本文介绍离子注入技术对气敏材料表面层组分，结构，电导率及气敏特性进行改性的研究进展。......
[期刊论文] 作者：王广甫,张荟星,
来源：发光学报 年份：2003
掺N非晶金刚石Ta-C(N)薄膜是合成β-C3N4研究中出现的一种新型固体薄膜材料,近年来由于其优异的电化学性能受到越来越多的关注.我们用磁过滤阴极真空弧等离子体沉积(FCVAD)方...
[期刊论文] 作者：朱祥正,张荟星,
来源：核技术 年份：1991
设计了一台多阴极的金属蒸气真空弧离子源,它有18个阴极,任一阴极都能在真空状态下被迅速接入电路工作。这是一种新型的强流金属离子源,特别适用于离子注入、材料改性。在脉...
[会议论文] 作者：张荟星,张孝吉,
来源：’94秋季中国材料研讨会 年份：1994
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[会议论文] 作者：张荟星;张孝吉;,
来源：97全国荷电粒子源粒子束学术会议 年份：1997
利用金属蒸汽真空弧技术产生的高密度金属等离子体，直接送入靶室，进行金属等离子体沉积和注入，可以获得高质量的各种金属薄膜，这是一种新型的制备薄膜的方法和手段。该文将介绍该......
[会议论文] 作者：张荟星,张孝吉,
来源：第六届电子束离子束学术年会 年份：1995
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