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[期刊论文] 作者：朱景芝,,
来源：科技创新与应用 年份：2013
介绍了球铁QT500-7汽车转向机节叉采用覆膜砂型芯负压铸造工艺;简述了模具参数,覆膜砂选用,型芯组合装箱,陶瓷过滤器放置,负压浇注工艺,热处理工艺的确定;分析了工艺的优势与...
[期刊论文] 作者：朱景芝,
来源：科学与信息化 年份：2016
当前,大数据成为主流名词。互联网已经成为我们日常生活中不可或缺的参与者。与此同时,独特的网络文化也在这个虚拟的世界里占据半壁江山,正在潜移默化地左右着我们对现实的...
[期刊论文] 作者：朱景芝,,
来源：铸造技术 年份：2013
介绍了用消失模铸造工艺生产球铁铸件中使用泡沫陶瓷过滤器的经验。简述过滤器的选用、尺寸、组件和放置方法。应用效果显示:提高组挂粘接效率,提高铸件抗拉强度,减少铸件夹...
[期刊论文] 作者：朱景芝,
来源：无线互联科技 年份：2016
当前,人们在使用SQL时,经常会掉入一个理解误区,就是太在乎结果是否正确,是否完美,忽视了有多种方法可供选择的可能,之所以出现这种情况,是因为存在复杂的数据库环境。笔者通...
[期刊论文] 作者：朱景芝,
来源：科技风 年份：2017
摘 要：随着计算机的广泛应用，计算机专业的相关教育也得到飞速发展。可是，有些计算机专业的毕业生，虽然理论知识过硬，但是缺乏研发设计能力，不能满足用人单位的需求，造成了高不成，低不就的尴尬现状。笔者针对当前计算机专业毕业生就业情况，通过调研走访，深入了解了信息化......
[期刊论文] 作者：朱景芝,
来源：新课程（教育学术） 年份：2004
"授人以鱼,不如授人以渔."实现"教是为了不教"的教学思想.学习兴趣的启动:首先应尊重主体,突出个性;其次建立师生间良好的人际关系;再次营造良好的学习环境.学习方法的培养:...
[期刊论文] 作者：朱景芝,江淼,,
来源：科学与财富 年份：2017
所谓计算科学，就是对描述和变换信息的一种算法过程。里面包括理论、分析、设计、效率分析、实现和应用的系统研究。从世界上第一台计算机产生至今，计算机的应用不断拓展，类型不......
[期刊论文] 作者：邱秀荣, 朱景芝,,
来源：物联网技术 年份：2019
文中首先阐述了物联网的起源、概念及其体系结构,接着对物联网中的关键技术进行了介绍,最后列举了物联网技术在日常生活中的应用,让大家对物联网能有更深层次的理解与认识。...
[期刊论文] 作者：宋延沛,朱景芝,
来源：热加工工艺 年份：2000
研究了回火温度对变质高碳中锰钢组织与性能的影响，结果表明，随回火温度升高冲击韧度增大，组织中回火碳化物增多，耐磨性提高，当回火温度达３００℃时，无缺口冲击韧度达最大值，为１２１．４Ｊ／ｃｍ＾２。与常规水......
[期刊论文] 作者：朱景芝,刘正堂,
来源：激光与红外 年份：1996
综述了红外增透膜和保护膜的设计方法，并介绍了几种新型红外镀膜材料。...
[期刊论文] 作者：刘正堂,朱景芝,
来源：红外技术 年份：1996
通过在Ａｒ＋Ｃｈ４气体中的射频反应溅射法制备出ＧｅｘＣ１－ｘｄ薄膜。利用俄歇电子能谱，Ｘ射线衍射，光度计及硬度测定等研究了沉积薄膜的成分，结构和性能。结果表明，薄膜中的Ｇｅ／Ｃ原子比随气体流量比ＣＨ４／（Ａｒ＋ＣＨ４）的增加而下降......
[期刊论文] 作者：邱秀荣,朱景芝,
来源：信息与电脑 年份：2016
为了满足广大客户的需求,笔者设计了一款更加精美、界面简洁、操作简单的安卓手机主题,优化手机操作界面,提升用户体验。...
[期刊论文] 作者：刘正堂,朱景芝,
来源：材料工程 年份：1998
系统地研究了射频磁控反应溅射中工艺参数ＧｅｘＣ１－ｘ薄膜沉积率的影响，结果表明，当气体流量比过某值后，沉积速率较大的下降。沉积速率随射频率功率的增大而增大，某工作气压下有沉积速率的最......
[会议论文] 作者：杨益秀,朱景芝,
来源：全国第七次光纤通信学术会议 年份：1995
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[期刊论文] 作者：宋延沛,祝要民,朱景芝,
来源：热加工工艺 年份：2000
研究了回火温度对变质高碳中锰钢组织与性能的影响 ,结果表明 :随回火温度升高冲击韧度增大 ,组织中回火碳化物增多、耐磨性提高 ,当回火温度达 30 0℃时 ,无缺口冲击韧度达...
[会议论文] 作者：刘正堂,宋建全,朱景芝,
来源：第三届中国功能材料及其应用学术会议 年份：1998
利用射频磁控反应溅射法，以Ar、CH为原料气体，在较宽的工艺参数范围内制备出了Ge-C薄膜。用可见光光度计及傅立叶红外光谱对薄膜的光学性能进行了研究。结果表明，随CH流量的增加......
[会议论文] 作者：梁庆民, 朱景芝, 雷波, 张建满,,
来源： 年份：2004
介绍了V法铸造工艺在耐磨铸件生产中的应用情况;对水玻璃砂及V法铸造产品质量做了对比;结合耐磨铸造企业V法铸造工艺的使用情况,提出了V法铸造工艺在耐磨铸件生产中的存在问...
[期刊论文] 作者：刘正堂,朱景芝,宋建权,郑修麟,
来源：材料工程 年份：1998
系统地研究了射频磁控反应溅射中工艺参数对ＧｅＸＣ１－Ｘ薄膜沉积速率的影响。结果表明，当气体流量比超过某值后，沉积速率有较大的下降。沉积速率随射频功率的增大而增大。某工作气压下有沉......
[期刊论文] 作者：宋建全,刘正堂,朱景芝,郑修麟,
来源：西北工业大学学报 年份：1998
利用射频磁控反应溅射法，以Ar、CH4为原料气体，在较宽的工艺参数范围内制备出了GexC1－x薄膜，研究了极板间距对沉积的影响。结果表明，随极板间距的减小，沉积速率增大，薄膜的均匀性变......
[期刊论文] 作者：刘正堂,朱景芝,许念坎,郑修麟,
来源：红外技术 年份：1996
射频反应溅射Ｇｅ_ｘＣ_（１－ｘ）薄膜的特性刘正堂，朱景芝，许念坎，郑修麟（西北工业大学材料科学与工程系，西安，７１００７２）［摘要］通过在Ａｒ＋ＣＨ４气体中的射频反应溅射法制备出ＧｅｘＣ（１－ｘ）薄膜。利用俄歇电子能谱、Ｘ射线衍射、光度计及......
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