搜索筛选:
搜索耗时0.0864秒,为你在为你在102,285,761篇论文里面共找到 9 篇相符的论文内容
发布年度:
[学位论文] 作者：江子荣,,
来源：浙江大学 年份：2006
目的:评价胸锁乳突肌瓣的临床应用价值,探讨影响其修复效果的因素。方法:对40例胸锁乳突肌瓣修复病例进行回顾和观察。其中舌癌8例,口底癌11例,颊癌3例,牙龈癌10例,腮腺恶性...
[学位论文] 作者：江子荣,
来源： 年份：2013
本文利用射频等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法,以SiH4和H2作为反应气体源,用H2稀释的PH3和B2H6作为掺杂剂,通过改变掺杂浓度、衬底温度、SiH4浓度等工艺参数,在玻璃衬底上低温制备了N型掺磷氢化纳米硅(nc-Si(P):)H和P型掺硼氢化纳米硅(nc-Si(B):H)薄膜。利......
[期刊论文] 作者：刘建华,江子荣,汪国华,陈智,,
来源：浙江医学 年份：2006
目的从mRNA水平观察肿瘤特异性抗原MAGE（黑色素瘤抗原基因）-A1及MAGE-A3基因在人舌鳞癌组织中的表达情况，以评价MAGE-A1、MAGE-A3基因作为舌鳞癌的免疫学检测、免疫和基因治疗的...
[期刊论文] 作者：彭英才, 江子荣, 王峰, 马蕾, 娄建忠,,
来源：微纳电子技术 年份：2004
纳米结构太阳电池在未来第三代太阳电池中具有潜在应用价值。首先,介绍了各种纳米结构光伏材料的优异物理特性。然后,着重评述了不同纳米结构太阳电池近年的研究进展。这些太...
[期刊论文] 作者：娄建忠,李钗,马蕾,王峰,江子荣,
来源：河北大学学报：自然科学版 年份：2012
利用射频等离子体增强型化学气相沉积（RF-PECVD）工艺,以SiH4和H2作为反应气体源,在玻璃和石英衬底上制备了氢化纳米晶硅（nc-Si：H）薄膜.采用Raman散射谱、原子力显微镜（AFM）、透射光......
[期刊论文] 作者：马蕾,郭延岭,张志刚,江子荣,娄建忠,彭英才,,
来源：人工晶体学报 年份：2011
利用高频感应加热化学气相沉积工艺,以H2稀释的SiH4作为反应气体源,在未抛光的粗糙石英衬底上直接沉积制备了具有均匀分布的大晶粒多晶Si膜。采用扫描电子显微镜、X射线衍射...
[期刊论文] 作者：彭英才,王峰,江子荣,马蕾,蒋冰,陈乙豪,
来源：微纳电子技术 年份：2004
中间带太阳电池是为了充分利用太阳光谱中的红外光子能量而提出的一种高效率新概念太阳电池.介绍了中间带太阳电池的能量上转换原理、量子点中间带的物理优势、量子点中间带...
[期刊论文] 作者：张青岭,李鹏飞,朱永利,郭会聪,李永庆,江子荣,,
来源：汽车电器 年份：2014
简要介绍一种电池管理系统电压采集电路的结构和工作原理,对电路进行实际测试。围绕电路输出电压值偏离实际电压值的问题,从信号采样、放大、A/D转换、电源以及PCB布局等环节...
[期刊论文] 作者：娄建忠,李钗,张二鹏,马蕾,江子荣,王峰,闫小兵,
来源：功能材料 年份：2012
利用射频等离子体增强型化学气相沉积（RF-PECVD）工艺,以SiH4和H2作为反应气体源,在石英衬底上制备了氢化纳米硅（nc-Si∶H）薄膜。其中衬底温度为250℃,H2稀释比为99%,反应压强为13...
相关搜索：
