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[期刊论文] 作者：胡耀臻,
来源：电子工业专用设备 年份：1997
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[期刊论文] 作者：胡耀臻,
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[期刊论文] 作者：Zave.,TE,胡耀臻,
来源：电子工业专用设备 年份：1996
本文通过数学机械模型，描述了图形曝光设备的光学系统和机械性能。探讨了应用模型改进光刻设备的结构特性。准确的实时设备控制，使得未来亚微米光刻的目标越来越现实。在深入到......
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