用于光刻技术的机械模型

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本文通过数学机械模型,描述了图形曝光设备的光学系统和机械性能。探讨了应用模型改进光刻设备的结构特性。准确的实时设备控制,使得未来亚微米光刻的目标越来越现实。在深入到亚微米光刻技术的今天,很有必要对设备校准,装配和操作运行进行探讨,以便促进对操作运行和设备结构性能的进一步了解。
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