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[期刊论文] 作者：白亚旭,袁正希,何为,何波,莫芸琦,
来源：印制电路信息 年份：2004
文章介绍的是由射频(RF)溅射反应沉淀制备的TaN薄膜,以及在各种N2/Ar气流比例和工作压力下测试其电阻率变化.从x射线衍射(X-RD)图像和四点探针测试仪测试的TaNx薄膜方块电阻...
[期刊论文] 作者：白亚旭（编译）,袁正希（编译）,何为（编译）,何波,莫芸琦,
来源：印制电路信息 年份：2010
文章介绍的是由射频（RF）溅射反应沉淀制备的TaN薄膜,以及在各种N2/Ar气流比例和工作压力下测试其电阻率变化。从X射线衍射（X-RD）图像和四点探针测试仪测试的TaNx薄膜方块电阻来看......
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