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[期刊论文] 作者：A.J.Woytek, 康显澄,,
来源：低温与特气 年份：1985
目前,三氟化氯正被研究作为一种半导体干气体蚀刻剂。这是因为它有很高的蚀刻速率和选择性。由于这种气体刚用于电子工业,故本文将对该化合物的物理和化学性质进行评论,并提...
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