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[会议论文] 作者：Atsushi Ishikawa,Akira Kawai,
来源：2004北京国际粘接技术研讨会 年份：2004
在本研究中,以尺寸小于100nm的聚合物聚集体的凝聚机理为研究对象.这种聚合物聚集体作为光致抗蚀材料在平板印刷工艺中使用.采用原子力显微镜(AFM)观察了材料表面聚合物聚集体的凝聚特性,表征了光致抗蚀图案侧面聚合物聚集体的凝聚行为.......
[会议论文] 作者：Akira Kawai,Atsushi Ishikawa,
来源：2004北京国际粘接技术研讨会 年份：2004
在微型图案的小型化过程中,微图案的粘附失效已成为微电子生产中的一大问题.基于此考虑,为提高粘附强度,在200~250℃下对抗蚀剂图案进行处理.然而,在酚醛软化点156℃之上时,就会发生热变形.本实验讨论了影响抗蚀剂微图案的变形因素,重点研究形状对形变度的影响.......
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