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[期刊论文] 作者:Cotl.,TJ,马长青, 来源:微电子学 年份:1991
用腐蚀复印图形是微电子生产的一个组成部分。化学(湿法)腐蚀是最早的刻蚀技术,它有一定的局限性,包括掩模与衬底的附着力差,缺乏各向异性的化学性质,因而不能复印微米...
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