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[期刊论文] 作者:Miyau.,T,卓超, 来源:石油化工译丛 年份:1990
[期刊论文] 作者:Miyau.,A,杨卫东, 来源:微电子学 年份:1991
在经HP酸处理后的Si(100)衬底上作了低温(900℃)外延。用常规的低压化学汽相淀积(LPCVD)系统作Si的淀积。经HF酸浸泡之后,外延层的堆垛层错密度(SFD)随去离子水漂洗时间的延...
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