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[期刊论文] 作者：N.Variam S.Mehta S.Norasetthek,
来源：电子工业专用设备 年份：2003
离子注入机ⅦSta平台对≤130mm尺寸CMOS工艺在整个能量和剂理范围提供单片注入。这些注入机的特征是硬件和设计原理通用，并包含离子束注入角控制、剂量到定和终端站设计。这种...
[期刊论文] 作者：N.Variam,S.Mehta,S.Norasetthekul,B.N.Guo,
来源：电子工业专用设备 年份：2003
离子注入机ⅦSta平台对≤130nm尺寸CMOS工艺在整个能量和剂理范围提供单片注入。这些注入机的特征是硬件和设计原理通用,并包含离子束注入角控制、剂量测定和终端站设计。这...
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