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,Reduction of Reactive-Ion Etching-Induced Ge Surface Roughness by SF6/CF4 Cyclic Etching for Ge Fin
[期刊论文] 作者：MA Xue-Zhi,ZHANG Rui,SUN Jia-Bao,SHI Yi,ZHAO Yi,
来源：中国物理快报（英文版） 年份：2015
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[期刊论文] 作者：Sun Jia-Bao,Sun Hui,Wang Wei,Cai Hua,Chen Xiao-Bing,
来源：中国物理B（英文版） 年份：2009
SrBi4-xFexTi4O15 (SBFT-x) thin films (x = 0.00, 0.05, 0.08, 0.15) have been synthesized on Pt/Ti/SiO2/Si (100)substrates by sol-gel method. This paper finds tha...
[期刊论文] 作者：Sun Jia-Bao,Tang Xiao-Yu,Yang Zhou-Wei,Shi Yi,Zhao Yi,
来源：中国物理B（英文版） 年份：2014
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[会议论文] 作者：SUN Jia-bao,XIONG Xiang,DANG Sheng-yun,孙加宝,熊翔,党胜云,
来源：中国工程科技论坛第151场——粉末冶金科学与技术发展前沿论坛 年份：2012
将质量分数为Fe-Cu-0.5C的基体粉末压制成形,在1120℃×120min条件下预烧,随后进行渗铜处理。获得一种高强度、高密度的铁基粉末冶金材料,研究渗铜处理对材料力学性能的...
[会议论文] 作者：SUN Jia-bao,孙加宝,XIONG Xiang,熊翔,DANG Sheng-yun,党胜云,
来源：中国工程科技论坛第151场——粉末冶金科学与技术发展前沿论坛 年份：2012
将质量分数为Fe-Cu-0.5C的基体粉末压制成形,在1120℃×120min条件下预烧,随后进行渗铜处理。获得一种高强度、高密度的铁基粉末冶金材料,研究渗铜处理对材料力学性能的影响。结果表明渗铜处理可以显著改善材料的致密度,提高材料强度,密度为6.60 g/cm3的骨架材......
,Equivalent oxide thickness scaling of Al2O3/Ge metal-oxide-semiconductor capacitors with ozone post
[期刊论文] 作者：Sun Jia-Bao,Yang Zhou-Wei,Geng Yang,Lu Hong-Liang,Wu Wang-Ran,Ye Xiang-Dong,David Zhang Wei,
来源：中国物理B（英文版） 年份：2013
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