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[期刊论文] 作者：Shoichiro Yoshida,罗镇伟,,
来源：国外计量 年份：1979
一、引言摆在半导体工业面前最严重的问题之一,是如何制造尺寸精确而无缺陷的光掩膜。掩膜的质量改进越大,则集成电路和大规模集成电路成品的生产率越高。在这方面,人们正以...
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