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[期刊论文] 作者：Tetsu Kohyama,
来源：电子工业专用设备 年份：2012
近来尼龙过滤被广泛用于光刻工艺流程来改善良率，因为许多IC和光阻制造商有实验性证据表明尼龙滤膜能吸附杂质。然而，尼龙滤膜降低缺陷的机制尚不清楚。通过致力于特定的光阻成......
[期刊论文] 作者：Tetsu Kohyama,,
来源：电子工业专用设备 年份：2012
近来尼龙过滤被广泛用于光刻工艺流程来改善良率,因为许多IC和光阻制造商有实验性证据表明尼龙滤膜能吸附杂质。然而,尼龙滤膜降低缺陷的机制尚不清楚。通过致力于特定的光阻...
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