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时间相关介质击穿相关论文
铜离子迁移现象及其对Cu金属化TDDB寿命的影响
...
期刊
铜离子
迁移
Cu金属化
TDDB寿命
时间相关介质击穿
多晶硅CVD HfO2栅层叠的时间相关介质击穿
...
期刊
多晶硅栅叠层
CVD
HFO2
时间相关介质击穿
可靠性
栅氧化
VLSI铜互连可靠性TDDB特性及其寿命评估模型研究
随着超大规模集成电路的发展,特征尺寸不断减小,RC延迟取代门延迟成为制约电路发展的主要瓶颈。在这种情况下,铜互连代替铝互连成......
学位
铜互连
时间相关介质击穿
寿命评估模型
可靠性
场效应管时间相关介质击穿的失效机制研究
TDDB(Time dependent Dielectric Breakdown)时间相关介质击穿,表征与时间相关的介质电击穿。在金属场效应管器件里是用来测试栅氧层......
期刊
集成电路制造
时间相关介质击穿
栅氧
场效应管
应力
退火
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