时间雾相关论文
在外延片的生产中，有时会遇到外延硅片在洁净室中暴露一段时间后产生雾状宏观缺陷（即所谓的时间雾）的不利情形。然而，关于外延硅片表面......
存储中Si片起“雾”是Si片存储面临的最大挑战，“雾”缺陷是可见或可印刷的晶体结构，从污染生长而来，已是困扰半导体业界长达10年以上......
因磨削工艺不同导致Ge单晶片表面粗糙度出现很大差异，并最终影响抛光速率、抛光片的表面质量及抛光片时间依赖性雾的形成。粗糙度大......
期刊
