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改善炉管晶舟立柱对多晶硅沉积的影响
使用炉管进行多晶硅低压化学气相沉积(LPCVD)的工艺被广泛用于VLSI制造。多晶硅薄膜LPCVD炉管工艺存在硅片表面邻近晶舟立柱(Boat ......
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