曝光模型相关论文
根据扫描干涉场曝光的特点,针对光刻胶层内曝光量的驻波效应,建立了动态曝光模型。基于快速推进法建立了显影模型,得到了光栅掩模......
介绍了一种实时监测全息光栅曝光过程的新方法.在曝光过程中,光刻胶折射率的空间分布发生微小变化,由此形成的潜像光栅同时对记录......
电子束曝光模型是研究电子束光刻技术的理论工具，它源于现实曝光过程中的微观现象，同时又可以为曝光实验提供参考依据和指导。
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针对厚胶曝光参数随不同光刻胶厚度及工艺条件变化的特点,在原有Dill曝光模型基础上,建立了适合于描述厚胶曝光过程的增强Dill模型......
针对厚胶曝光参数随不同光刻胶厚度及工艺条件变化的特点，在原有Dill曝光模型基础上，建立了适合于描述厚胶曝光过程的增强Dill模型。......
基于DILL经典曝光模型，对其分别在深度轴和时间轴上进行扩展：在深度轴上，以基尔霍夫衍射公式为基础，引入复折射率，利用光束传输法的思想......
近年来,随着MEMS研究及其应用的快速发展,微细加工技术作为其中的一个重要组成部分,获得了长足的进步。UV-LIGA技术是现代微细加工......
两束记录光非对称入射必然造成光刻胶中潜像光栅"沟槽"的倾斜,进而影响显影后光栅沟槽的形状。特别是在凹面全息光栅的制作中,两束......
脉冲压缩光栅是激光脉冲啁啾放大技术中重要的核心元件,随着高功率脉冲激光器输出能量的不断增大,光栅的口径已经达到米级。全息记......
